一般高圧ガス保安規則 第二条

この規則において次の各号に掲げる用語の意義は、それぞれ当該各号に定めるところによる。 一 可燃性ガスアクリロニトリル、アクロレイン、アセチレン、アセトアルデヒド、アルシン、アンモニア、一酸化炭素、エタン、エチルアミン、エチルベンゼン、エチレン、塩化エチル、塩化ビニル、クロルメチル、酸化エチレン、酸化プロピレン、シアン化水素、シクロプロパン、ジシラン、ジボラン、ジメチルアミン、水素、セレン化水素、トリメチルアミン、二硫化炭素、ブタジエン、ブタン、ブチレン、プロパン、プロピレン、ブロムメチル、ベンゼン、ホスフィン、メタン、モノゲルマン、モノシラン、モノメチルアミン、メチルエーテル、硫化水素及びその他のガスであつて次のイ又はロに該当するもの（フルオロカーボンであつて経済産業大臣が定めるものを除く。） 二 毒性ガスアクリロニトリル、アクロレイン、亜硫酸ガス、アルシン、アンモニア、一酸化炭素、塩素、クロルメチル、クロロプレン、五フッ化ヒ素、五フッ化リン、酸化エチレン、三フッ化窒素、三フッ化ホウ素、三フッ化リン、シアン化水素、ジエチルアミン、ジシラン、四フッ化硫黄、四フッ化ケイ素、ジボラン、セレン化水素、トリメチルアミン、二硫化炭素、ふつ素、ブロムメチル、ベンゼン、ホスゲン、ホスフィン、モノゲルマン、モノシラン、モノメチルアミン、硫化水素及びその他のガスであつて毒物及び劇物取締法（昭和二十五年法律第三百三号）第二条第一項に規定する毒物 三 特殊高圧ガスアルシン、ジシラン、ジボラン、セレン化水素、ホスフィン、モノゲルマン、モノシラン 四 不活性ガスヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン、窒素、二酸化炭素又はフルオロカーボン（可燃性ガスを除く。） 四の二 特定不活性ガス不活性ガスのうち、フルオロカーボンであつて、温度六十度、圧力零パスカルにおいて着火したときに火炎伝ぱを発生させるもの 五 第一種保安物件次に掲げるもの（事業所の存する敷地と同一敷地内にあるものを除く。） 六 第二種保安物件第一種保安物件以外の建築物であつて、住居の用に供するもの（事業所又は販売所の存する敷地と同一敷地内にあるものを除く。） 七 貯槽高圧ガスの貯蔵設備であつて、地盤面に対して移動することができないもの 八 低温貯槽大気圧における沸点が零度以下のガスを温度零度以下又は当該ガスの気相部における常用の圧力（通常の使用状態において、当該設備等に作用する圧力（当該圧力が変動する場合にあつては、その変動範囲のうちの最高の圧力）であつて、ゲージ圧力をいう。以下同じ。）が〇・一メガパスカル以下の液体の状態で貯蔵するための貯槽であつて、断熱材で被覆し、又は冷凍設備で冷却することにより貯槽内のガスの温度が常用の温度を超えて上昇しないような措置を講じてあるもの 九 貯蔵能力貯蔵設備に貯蔵することができる高圧ガスの数量であつて、圧縮ガスの貯蔵設備にあつては次のイの算式により、液化ガスの貯蔵設備にあつては次のロの算式（貯蔵設備が容器である場合には次のハの算式）により得られたもの 十 充塡容器現に高圧ガス（高圧ガスが充塡された後に当該ガスの質量が充塡時における質量の二分の一以上減少していないものに限る。）を充塡してある容器 十一 残ガス容器現に高圧ガスを充塡してある容器であつて、充塡容器以外のもの 十二 移動式製造設備製造（製造に係る貯蔵及び導管による輸送を含む。以下同じ。）のための設備（以下「製造設備」という。）であつて、地盤面に対して移動することができるもの 十三 定置式製造設備製造設備であつて、移動式製造設備以外のもの 十四 ガス設備製造設備（製造に係る導管を除く。）のうち、製造をする高圧ガスのガス（その原料となるガスを含む。）が通る部分 十五 高圧ガス設備ガス設備のうち、高圧ガスが通る部分 十六 処理設備圧縮、液化その他の方法でガスを処理することができる設備であつて、高圧ガスを製造するもの 十七 減圧設備高圧ガスを高圧ガスでないガスにする設備 十八 処理能力処理設備又は減圧設備の処理容積（圧縮、液化その他の方法で一日に処理することができるガスの容積（温度零度、圧力零パスカルの状態に換算したものをいう。以下同じ。）をいう。以下同じ。）であつて、次に掲げる処理設備又は減圧設備の区分に応じ、それぞれに掲げるところにより得られたもの 十九 第一種設備距離次の図における貯蔵能力（単位　圧縮ガスにあつては立方メートル、液化ガスにあつてはキログラム）又は処理能力（単位　立方メートル）に対応する距離（単位　メートル）であつて、可燃性ガス及び毒性ガスの貯蔵設備、処理設備及び減圧設備にあつてはＬ１、酸素のものにあつてはＬ２、その他のものにあつてはＬ３によつて表されるもの 二十 第二種設備距離前号の図における貯蔵能力（単位　圧縮ガスにあつては立方メートル、液化ガスにあつてはキログラム）又は処理能力（単位　立方メートル）に対応する距離（単位　メートル）であつて、可燃性ガス及び毒性ガスの貯蔵設備、処理設備及び減圧設備にあつてはＬ２、酸素のものにあつてはＬ３、その他のものにあつてはＬ４によつて表されるもの 二十一 第一種置場距離次の図における容器置場の面積（単位　平方メートル）に対応する距離（単位　メートル）であつて、ｌ１によつて表されるもの 二十二 第二種置場距離前号の図における容器置場の面積（単位　平方メートル）に対応する距離（単位　メートル）であつて、ｌ２によつて表されるもの 二十二の二 コールド・エバポレータ液化アルゴン、液化炭酸ガス、液化窒素又は液化酸素の加圧蒸発器付低温貯槽（二重殻真空断熱式構造のものに限る。）を有する定置式製造設備（加圧蒸発器付低温貯槽以外の処理設備（第十八号ハの処理設備を除く。）を有するものを除く。） 二十三 圧縮天然ガススタンド圧縮天然ガスを燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該圧縮天然ガスを充塡するための処理設備を有する定置式製造設備 二十四 液化天然ガススタンド液化天然ガスを燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該液化天然ガスを充塡するための処理設備を有する定置式製造設備 二十五 圧縮水素スタンド圧縮水素を燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該圧縮水素を充塡するための処理設備を有する定置式製造設備 二十六 移動式圧縮水素スタンド圧縮水素を燃料として使用する車両に固定した燃料装置用容器に当該圧縮水素を充塡するための処理設備を有する移動式製造設備

２ 前項に規定するもののほか、この規則において使用する用語は、法において使用する用語の例によるものとする。