輸出貿易管理令別表第一及び外国為替令別表の規定に基づき貨物又は技術を定める省令 第19条

第19条

外為令別表の七の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。 一第6条第2号ハ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくはニ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくは４又は第16号ロに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。） 二第6条に該当するもの（同条第2号ハ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくはニ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくは４又は第16号ロに該当するものを除く。）の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれにも該当しないもの 三第6条第16号ロに該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム 四第6条第16号の二に該当するものを設計するために設計したプログラム 五第6条に該当するもの（前二号又は同条第1号、第10号の二、第16号の三若しくは第18号から第26号までのいずれかに該当するものを除く。）を設計し、又は製造するために設計したプログラム

２ 外為令別表の七の項（二）の経済産業省令で定める技術は、第6条第17号イ、ロ、ホ、ヘ又はヌからシまでのいずれかに該当するものを使用するために設計したプログラムとする。

３ 外為令別表の七の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。 一極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用のマスク又はレチクルのパターンを設計するために特に設計したコンピューテーショナル・リソグラフィ・プログラム 二絶縁体が二酸化けい素からなる集積回路の基板であって、シリコンオンインシュレータ構造を有するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。） 三マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ又はマイクロコントローラのコアであって、論理演算ユニットのアクセス幅のビット数が三二以上のもののうち、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。） 四電磁パルス又は静電放電による中断から一ミリ秒以内に動作の連続性を失うことなくマイクロコンピュータ又はマイクロプロセッサを正常状態に回復するように特に設計したプログラム 五直径三〇〇ミリメートルのシリコンウエハーの外周の除外領域を二ミリメートル以下としたウエハーの表面に対するスライス、研削及び研磨の技術のうち、長さ二六ミリメートル、幅八ミリメートルの長方形に分割されたいずれの領域における平坦度が二〇ナノメートル以下を達成するために必要な技術（プログラムを除く。） 六ゲートオールアラウンド電界効果トランジスタ（ＧＡＡＦＥＴ）の構造を有する集積回路を設計するために特に設計したＥＣＡＤプログラムであって、次のいずれかに該当するもの 七走査型電子顕微鏡により取得した画像からＧＤＳⅡデータ又はこれと同等の標準レイアウトデータを抽出し、当該データの層間位置合わせ機能を実行し、多層のＧＤＳⅡデータ又は回路のネットリストを生成するために設計したプログラム 八ゲートオールアラウンド電界効果トランジスタ（ＧＡＡＦＥＴ）の構造を有する集積回路又は半導体素子の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれにも該当しないもの 九複数のチップをマルチチップ集積回路に統合するために設計した電子コンピュータ支援設計プログラムであって、次の全てに該当するもの 十マルチパターニングを使用した集積回路を設計し、又は製造するために設計し、又は改造した電子コンピュータ支援設計プログラム 十一深紫外リソグラフィのマスク又はレチクル上のパターンを設計し、又は製造するために設計し、又は改造した計算機リソグラフィ用のプログラム

４ 外為令別表の七の項（四）の経済産業省令で定める技術は、超電導材料を用いた電子素子の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。

５ 外為令別表の七の項（五）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。 一削除 二真空マイクロエレクトロニクス装置の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。） 三ヘテロ接合の半導体素子（動作周波数が三一・八ギガヘルツ未満の高電子移動度トランジスタ又はヘテロ接合バイポーラトランジスタを除く。）の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。） 四電子機器の部分品として用いる基板であって、ダイヤモンド、炭化けい素又は酸化ガリウムを用いたものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。） 五動作周波数が三一・八ギガヘルツ以上の真空電子デバイス（クライストロン、進行波管及びこれらから派生したものを含む。）の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）